Los científicos en el Instituto Nacional de Estándares y Tecnología (NIST) han desarrollado un nuevo método radical de enfocar un flujo de iones en un punto tan pequeño como un nanómetro (una milmillonésima de un metro).

Debido a la versatilidad de su enfoque, puede utilizarse con una amplia gama de iones adaptados a la tarea en cuestión, se espera que tenga amplia aplicación en la nanotecnología, tanto para la talla menor de los semiconductores, características que ahora son posibles y no destructivos para imágenes de estructuras a nanoescala con mejor resolución que actualmente es posible con microscopios de electrones.

Los investigadores y fabricantes rutinariamente usan los rayos intensos, de iones enfocados para tallar rasgos nanómetro-clasificadas en una gran variedad de blancos.
En principio, los rayos de ion también podrían producir las mejores imágenes de rasgos de superficie a nanoescala que la microscopía convencional de electrones. Pero la tecnología corriente para ambos usos es problemática.

En el más utilizado método, un metal recubierto de agujas genera un estricto centrado haz de iones de galio. Las energías altas tuvieron que enfocar el galio para tareas laminadas que terminan por enterrar pequeñas cantidades en la muestra, contaminando el material.

Y porque los iones de galio son tan pesados (relativamente hablando), que de ser usados para recoger imágenes ellos sin querer dañan la muestra, arruinando un poco de su superficie mientras está siendo observada. Los investigadores han intentado utilizar otros tipos de iones, pero no pudieron producir el brillo o la intensidad necesaria para el que el haz de iones pudiera cortar en la mayor parte de materiales.

Título: Cold Atoms Could Replace Hot Gallium in Focused Ion Beams
Crédito de la imagen: people.wm.edu